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喷头洁净度“体检”新方案:Sensofar S neox让CVD工艺隐患无所遁形

喷头洁净度“体检”新方案:Sensofar S neox让CVD工艺隐患无所遁形

2026/10/20 10:02

  

阅读:14

应用领域
半导体
检测样品
晶片外延生长
检测项目
无
参考标准
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方案详情

针对CVD喷头质控需求,Sensofar的S neox利用干涉技术,提供高效检测方案:5倍物镜4秒快速扫描排查疑似残留物,50倍物镜2秒精准成像观测微纳米细节;低噪声特性不受倍率限制,可捕捉纳米级缺陷,全程无需接触样品表面,避免二次污染或损伤,特别适用于对洁净度要求极高的CVD喷头检测,为喷头清洁度验证提供可靠支撑,筑牢薄膜工艺质量防线。

产品配置单

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