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仪器设备介绍
产品简介
S-neox在半导体、光学器件、材料、超精密加工、航空航天等领域被广泛应用。能够观测产品材料的表面形貌和轮廓尺寸；能够实现产品结构的2D尺寸、3D尺寸测量；能够实现图像的自动拼接；
该设备具有高分辨率、大景深观察，纵向分辨率达0.01nm；能够进行表面粗糙度、平整度、台阶高度等微结构测量；
设备同时拥有白光干涉、相位差干涉、共聚焦、多焦面叠加等几种不同的测量功能技术，在使用中可以一键切换几种不同的测量模式，针对不同表面结构和不同精度要求的样品都能完成测量分析。
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2秒识别纳米级缺陷！
CVD喷头清洁度一目了然
CVD工艺的“隐形杀手”
化学气相沉积（CVD）是晶圆制造中形成高性能薄膜涂层的核心工艺，喷头则是实现均匀沉积的关键部件，其表面洁净度直接影响薄膜质量与工艺良率。然而，在沉积过程中，反应前驱体及副产物极易附着于喷头表面，形成微米乃至纳米级的残留物。
这些残留物若未能及时发现与清除，将导致：
●气流分布畸变：喷头微孔堵塞或局部收窄，破坏气体均匀性
●颗粒污染风险：残留物剥落形成颗粒，造成薄膜缺陷
●工艺漂移：同一批次内薄膜厚度、成分出现系统性偏差
●设备停机：严重堵塞时需停机拆解清洗，大幅降低产能
传统检测手段如目视检查、称重法、电镜观察等，存在灵敏度不足、破坏样品、耗时过长等问题，难以满足产线快速筛查需求。因此，在CVD工艺前后对喷头进行清洁度验证与表面状态评估，是保障工艺稳定性、提升产品良率的核心质控环节。
S neox干涉测量技术：
CVD喷头高效精准检测的核心方案
使用50倍干涉镜头测量
CVD喷头的三维轮廓图
针对CVD喷头质控需求，Sensofar的S neox利用干涉技术，提供高效检测方案：5倍物镜4秒快速扫描排查疑似残留物，50倍物镜2秒精准成像观测微纳米细节；低噪声特性不受倍率限制，可捕捉纳米级缺陷，全程无需接触样品表面，避免二次污染或损伤，特别适用于对洁净度要求极高的CVD喷头检测，为喷头清洁度验证提供可靠支撑，筑牢薄膜工艺质量防线。
喷头上无明显残留物
喷头上可能有残留物
使用5倍干涉镜头测量
CVD喷头的三维轮廓图
在CVD等薄膜工艺向更精细、更稳定方向演进的今天，喷头清洁度已从"经验管理"走向"数据驱动"。Sensofar S neox以亚纳米级光学检测能力，为这一关键环节提供了精准、高效、无损的量化手段，助力用户从"看不见的风险"迈向"可管控的质量"。
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